Semiconducting Properties of Thermally Formed TiO2 Films at 400°C

Enviado por admin en Jue, 05/23/2013 - 10:48
Año: 
1 995
Nombre de la revista: 
Electrochem
Página inicial: 
pp. 247
Volumen: 
Vol. 25,
Autor (es): 
M.E.Vaschetto
B.Retamal
M.J.Aguirre